Також компанія представила нещодавно випущені чорнила Xennia Jade для прямого друку на плівці (DTF). До лінійки входять чернила (CMYK і білі), а також полімерний порошок. Серед інших готових до демонстрації продуктів сублімаційні чернила ElvaJet Opal SB для друкувальних голівок Epson, а також гібридні сублімаційні черніли ElvaJet Topaz SC для друкувальних голівок Kyocera, які забезпечують високу продуктивність при друці безпосередньо на тканині або з використанням трансферного друку.

Крім того, Sun Chemical представила сублімаційні чорнила ElvaJet SR342 з більш високою в’язкістю. Компанія демонструє рішення для пігментного, реактивного та кислотного друку, що забезпечують кращі кольори та експлуатаційні характеристики: лінійка пігментних чорнил Xennia Sapphire, реактивних чорнил Xennia Amethyst Evo RC, а також кислотних чернил Xennia Agate для Kyocera.

Також Sun Chemical представляє широкий асортимент фарб для традиційного та УФ-трафаретного та тамподруку, як для промислового, так і для графічного застосування на багатьох ринках (автомобільна, аерокосмічна індустрія, друкована електроніка та пакування).

Директор з цифрового бізнесу Sun Chemical Піт Сондерс заявив: «FESPA Global Print Expo впродовж десятиліття залишається флагманською виставкою широкоформатної індустрії. Як найбільший виробник чернил і покриттів, ми знову раді взяти участь у виставці і з нетерпінням будемо мати можливість поспілкуватися з існуючими і новими клієнтами і продумонструвати, які трансформації вони можуть здійснити».